ФГБУН Институт сильноточной электроники Сибирского отделения Российской академии наук (ИСЭ СО РАН)
Краткое описание:
Предлагаются системы электропитания, позволяющие реализовывать комбинированные режимы высокоионизированного физического осаждения покрытий из паровой фазы на основе магнетронных распылительных систем, в которых совместно используются разряды постоянного и переменного высокочастотного тока. Система включает в себя источник питания постоянного тока (до 2 кВт), источник питания переменного синусоидального тока (1.5 кВт, 2 МГц), а также устройства, обеспечивающие суммирование и согласования выходных сигналов с плазменной нагрузкой.
Пояснительная записка:
Новые методы физического высоко-ионизированного физического осаждения (I-PVD) способны обеспечить высокую степень ионизации распыленного вещества и уровень ионного воздействия на подложку, что позволяет получать покрытия высокого качества при низких температурах подложек. Один из способов высокоионизированного осаждения заключается в совместном использовании магнетронного разряда постоянного тока (DC) и ассистирующего высокочастотного разряда (RF, f более 1 МГц).
Разработана универсальная система электропитания, обеспечивающая возможность реализации различных конфигураций распылительных систем. Система электропитания обладает каналами постоянного и переменного тока, способными работать в раздельном и совместном режимах. В состав системы входит источник постоянного тока (мощность 2 кВт), высокочастотный источник питания (2МГц, 1.5 кВт), а также схема суммирования/согласования сигналов с плазменной нагрузкой и система управления, обеспечивающая взаимодействие узлов между собой.
Технико-экономические преимущества: Предложенная комбинация источников питания позволяет сохранить высокую производительность, присущую магнетронным распылительным системам постоянного тока и, с другой стороны, обеспечить высокие параметры плазмы, свойственные высокочастотному разряду.
Области применения Нанесение тонкопленочных покрытий (металлических, оксидных, нитридных и т.д.) толщиной 0.01-10 мкм методом магнетронного распыления в исследовательских целях или условиях промышленного производства.
Уровень практической реализации: Экспериментальный образец.
Патентная защита: Разработка не запатентована.
Коммерческие предложения: Договор на разработку, изготовление и поставку продукции.
Ориентировочная стоимость: от 1 000 000 (одного миллиона) рублей.
Контакты: Лаборатория прикладной электроники ИСЭ СО РАН
Тел. +7(3822) 491-651
Эл. почта: oskirkovo@gmail.com