Комбинированный источник электропитания магнетронных распылительных систем. Система электропитания МРС DC-RF.

Институт сильноточной электроники СО РАН

Краткое описание:

Предлагаются системы электропитания, позволяющие реализовывать комбинированные режимы высокоионизированного физического осаждения покрытий из паровой фазы на основе магнетронных распылительных систем, в которых совместно используются разряды постоянного и переменного высокочастотного тока. Система  включает в себя источник питания постоянного тока (до 2 кВт), источник питания переменного синусоидального тока (1.5 кВт, 2 МГц), а также устройства, обеспечивающие суммирование и согласования выходных сигналов с плазменной нагрузкой. 

Пояснительная записка:

Новые методы физического высоко-ионизированного физического осаждения (I-PVD) способны обеспечить высокую степень ионизации распыленного вещества и уровень ионного воздействия на подложку, что позволяет получать покрытия высокого качества при низких температурах подложек. Один из способов высокоионизированного осаждения заключается в совместном использовании магнетронного разряда постоянного тока (DC) и ассистирующего высокочастотного разряда (RF, f  более 1 МГц).

Разработана универсальная система электропитания, обеспечивающая возможность реализации различных конфигураций распылительных систем. Система электропитания обладает каналами постоянного и переменного тока, способными работать в раздельном и совместном режимах. В состав системы входит источник постоянного тока (мощность 2 кВт), высокочастотный источник питания (2МГц, 1.5 кВт), а также схема суммирования/согласования сигналов  с плазменной нагрузкой и система управления, обеспечивающая взаимодействие узлов между собой.

Внешний вид комбинированной системы электропитания RF+DC.

Технико-экономические преимущества: Предложенная комбинация источников питания позволяет сохранить высокую производительность, присущую магнетронным распылительным системам постоянного тока и, с другой стороны, обеспечить высокие параметры плазмы, свойственные высокочастотному разряду.

Области применения Нанесение тонкопленочных покрытий (металлических, оксидных, нитридных и т.д.) толщиной 0.01-10 мкм методом магнетронного распыления в исследовательских целях или условиях промышленного производства.

Уровень практической реализации: Экспериментальный образец. 

Патентная защита: Разработка не запатентована.

Коммерческие предложения: Договор на разработку, изготовление и поставку продукции.

Ориентировочная стоимость: от 1 000 000 (одного миллиона) рублей.

Контакты: Лаборатория прикладной электроники ИСЭ СО РАН

Тел. +7(3822) 491-651

Эл. почта: oskirkovo@gmail.com