Институт физики полупроводников им. А.В. Ржанова СО РАН
Характеристика
Устройство относится к технологии изготовления полупроводниковых приборов, в частности, к устройствам, специально предназначенным для изготовления или обработки полупроводниковых приборов, или приборов на твёрдом теле, или их частей, и может быть использовано для отделения от ростовой подложки композитной структуры по жертвенному слою, изготовленной на основе сплошной эпитаксиальной плёнки полупроводниковых соединений АIIIВV, характеризующейся большой площадью и малой толщиной (от 2 до 50 мкм), переноса её на вакуумный захват или на временный носитель.
Технико-экономические преимущества
Предлагаемое устройство (RU 2 683 808 C1) для отделения от подложки композитной структуры на основе полупроводниковой плёнки решает техническую проблему предотвращения деградации качества композитной структуры с эпитаксиальной плёнкой полупроводниковых соединений А3В5 большой площади (диаметром от 100 мм или более), как в процессе отделения её от ростовой подложки, так и в процессе последующих манипуляций, включая перенос отделённой композитной структуры на фиксирующие приспособления технологического оборудования, как в газовой, так и в жидкой среде, а также на временный носитель.
Достигаемым техническим результатом является:
— устранение механических воздействий на отделяемую композитную структуру – отгибающих её края усилий с целью облегчения отделения структуры, приводящих к появлению упругих механических напряжений, обуславливающих значительную деформацию, приводящую к растрескиванию;
— предотвращение коробления, сохранение расправленного состояния композитной структурой при её отделении от оправки для переноса на фиксирующие приспособления технологического оборудования или на временный носитель;
— достижение сохранности эпитаксиальной плёнки как в процессе отделения композитной структуры от ростовой подложки, так и при последующем переносе композитной структуры на фиксирующие приспособления технологического оборудования или на временный носитель.
Тем самым достигается снижение технологических операций по отделению тонкой полупроводниковой плёнки в 2-3 раза, а, следовательно, и финансовые издержки.
Области применения: Электроника, микроэлектроника, производство гибких солнечных элементов.
Уровень практической реализации: Лабораторный макет.